Polerpude Skum Grov

Pad polishujący RUPES z ekspandowanej pianki żywicznej został specjalnie zaprojektowany do systemu polerowania orbitalnego. Wydajność i oszczędność czasu są znacznie poprawione dzięki innowacyjnej strukturze „otwartej komórki”. Ta struktura zapobiega również nagromadzeniu się ciepła generowanego podczas procesu polerowania, gwarantując maksymalną efektywność przy minimalnym nacisku pionowym ze strony operatora. Dziura w centralnej części zapewnia doskonałą wentylację i rozpraszanie ciepła poprzez specjalne kanały w podkładzie. Innowacyjny design w kształcie stożka poprawia wydajność dużych drgań, jednocześnie chroniąc przed przypadkowym kontaktem podkładki z powierzchnią roboczą.